反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能
周滔,聂璞林,李铸国,黄坚,蔡珣
Mechanical Properties of (Ti,Al)N Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
ZHOU Tao, NIE Pu–lin, LI Zhu–guo, HUANG Jian, CAI Xun
中国表面工程 . 2010, (1): 34 -38 .