反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能

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中国表面工程 ›› 2010, Vol. 23 ›› Issue (1) : 34-38.

表面工程

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Mechanical Properties of (Ti,Al)N Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering

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{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2010, 23(1): 34-38

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ISSN 1007-9289　CN 11-3905/TG
主管：中国科学技术协会
主办：中国机械工程学会
编辑出版：《中国表面工程》编辑部

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