高功率脉冲磁控溅射沉积原理与工艺研究进展*
吴志立, 朱小鹏, 雷明凯
Progress in Deposition Principle and Process Characteristics of High Power Pulse Magnetron Sputtering
WU Zhili, ZHU Xiaopeng, LEI Mingkai
中国表面工程 . 2012, (5): 15 -20 .