高功率离子源功率对持续高功率反应磁控溅射沉积Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜的影响

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20241105001

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中国表面工程 ›› 2025, Vol. 38 ›› Issue (2) : 19-26. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20241105001

特邀专栏：PVD 硬质涂层关键技术

高功率离子源功率对持续高功率反应磁控溅射沉积Al₂O₃薄膜的影响

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Effect of High-power Ion Source Power on the Deposition of Al₂O₃ Films by Reactive Continuous High-power Magnetron Sputtering

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收稿日期	修回日期	接受日期	出版日期
2024-11-05	2024-12-17	2025-01-14	2025-04-23
发布日期
2025-06-26

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