N2气流量对HiPIMS制备SiNx薄膜微观结构和力学性能的影响

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20230920003

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中国表面工程 ›› 2025, Vol. 38 ›› Issue (2) : 245-254. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20230920003

综述

N₂气流量对HiPIMS制备SiN_x薄膜微观结构和力学性能的影响

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Effect of N₂ Flow Rates on the Microstructure and Mechanical Property of SiN_x Films Prepared by HiPIMS

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收稿日期	修回日期	接受日期	出版日期
2023-09-20	2023-10-24	2023-10-24	2025-04-23
发布日期
2025-06-26

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