筒内高功率脉冲磁控溅射放电等离子体的空间分布及输运行为

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20220123001

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中国表面工程 ›› 2022, Vol. 35 ›› Issue (5) : 163-171. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20220123001

筒内高功率脉冲磁控溅射放电等离子体的空间分布及输运行为

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Plasma Spatial Distribution and Transport Behavior of High Power Impulse Magnetron Sputtering in Cylindrical Cathode

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