电-磁场协同增强HiPIMS技术的CrAl靶放电行为及CrAlN薄膜制备

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20220115001

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中国表面工程 ›› 2022, Vol. 35 ›› Issue (5) : 155-162. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20220115001

电-磁场协同增强HiPIMS技术的CrAl靶放电行为及CrAlN薄膜制备

{{article.zuoZhe_CN}}

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CrAl Target Discharge Behavior of Electric and Magnetic Fields Synergistically Enhancing HiPIMS and Preparation of CrAlN Film

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2022, 35(5): 155-162 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20220115001

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2022, 35(5): 155-162 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20220115001

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