高功率脉冲磁控溅射TiNb靶材等离子特性及其对薄膜性能影响

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20211231001

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中国表面工程 ›› 2022, Vol. 35 ›› Issue (5) : 254-263. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20211231001

高功率脉冲磁控溅射TiNb靶材等离子特性及其对薄膜性能影响

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Plasma Characteristics of TiNb Target and Its Effect on Film Properties by High-power Impulsed Magnetron Sputtering

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