基体偏压对高功率脉冲磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20210623001

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中国表面工程 ›› 2022, Vol. 35 ›› Issue (5) : 200-209. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20210623001

基体偏压对高功率脉冲磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响

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Effect of Substrate Bias on the Properties of Craln Films Prepared by High Power Pulsed Magnetron Sputtering

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