基于X射线反射研究溅射工艺对CrAlN/TiAlN周期膜界面结构的影响

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20170822002

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中国表面工程 ›› 2018, Vol. 31 ›› Issue (1) : 67-73. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20170822002

表面工程

基于X射线反射研究溅射工艺对CrAlN/TiAlN周期膜界面结构的影响

{{article.zuoZhe_CN}}

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Effects of Sputtering Process on Interfacial Structure of CrAlN/TiAlN Nano-scale Multilayer by X-ray Reflectometry

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2018, 31(1): 67-73 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20170822002

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2018, 31(1): 67-73 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20170822002

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