乙二胺在硅化学机械抛光中的作用机制∗

主管单位：中国科学技术协会
主办单位：中国机械工程学会
编委会主任：薛群基院士
主　　编：邵天敏教授
创　　刊：1988年
刊　　期：双月刊

汪海波，蒋先伟

Mechanism Study on Silicon CMP Using Ethylenediamine

WANG Haibo, JIANG Xianwei

中国表面工程 . 2021, (4): 67 -73 . DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20210413002

ISSN 1007-9289　CN 11-3905/TG
主管：中国科学技术协会
主办：中国机械工程学会
编辑出版：《中国表面工程》编辑部

访问统计

总访问量
今日访问
在线人数