工艺参数对射频磁控溅射PTFE靶形成的等离子体组成的影响

主管单位：中国科学技术协会
主办单位：中国机械工程学会
编委会主任：薛群基院士
主　　编：邵天敏教授
创　　刊：1988年
刊　　期：双月刊

唐光泽,马欣新,孙明仁

The Effect of Process Parameters on Plasma Environment of RF Magnetron Sputtering PTFE Target With Negative Pulse- Voltage Bias

TANG Guang-ze,MA Xin-xin,SUN Ming-ren

中国表面工程 . 2007, (1): 35 -37 .

ISSN 1007-9289　CN 11-3905/TG
主管：中国科学技术协会
主办：中国机械工程学会
编辑出版：《中国表面工程》编辑部

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