直流磁控溅射制备二氧化硅薄膜及其性能

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中国表面工程 ›› 2013, Vol. 26 ›› Issue (1) : 34-39.

表面工程

直流磁控溅射制备二氧化硅薄膜及其性能

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Properties of the Silicon Dioxide Films Fabricated by DC Reactive Magnetron Sputtering

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{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2013, 26(1): 34-39

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ISSN 1007-9289　CN 11-3905/TG
主管：中国科学技术协会
主办：中国机械工程学会
编辑出版：《中国表面工程》编辑部

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