离子源对中频反应磁控溅射AlN薄膜结构和性能的影响

PDF(2013 KB)

中国表面工程 ›› 2012, Vol. 25 ›› Issue (6) : 42-46.

表面工程

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

Efects of Ion Source on the Structure and Properties of AlN Thin Films Deposited by MF Reactive Magnetron Sputtering

{{article.zuoZhe_EN}}

Author information +

文章历史 +

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2012, 25(6): 42-46

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2012, 25(6): 42-46

中图分类号：

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

基金

版权

PDF(2013 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

ISSN 1007-9289　CN 11-3905/TG
主管：中国科学技术协会
主办：中国机械工程学会
编辑出版：《中国表面工程》编辑部

访问统计

总访问量
今日访问
在线人数

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

参考文献

参考文献

{{custom_fnGroup.title_cn}}

脚注

{{custom_ack.title_cn}}

基金

版权



发布日期
2023-12-19

模态框（Modal）标题

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

参考文献

参考文献

{{custom_fnGroup.title_cn}}

脚注

{{custom_ack.title_cn}}

基金

版权