氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响

吕艳红1 ,2,孔庆花1,2,吉 利1,李红轩1,刘晓红1,陈建敏1,周惠娣1

中国表面工程 ›› 2011, Vol. 24 ›› Issue (4) : 7-12.

PDF(1601 KB)
PDF(1601 KB)
中国表面工程 ›› 2011, Vol. 24 ›› Issue (4) : 7-12.
表面工程

氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Influence of Nitrogen Flows on Properties of CrAlN Film Prepared by Mid–frequency Unbalanced Magnetron Sputtering

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2011, 24(4): 7-12
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2011, 24(4): 7-12
中图分类号:

参考文献

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(1601 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航
相关文章

/