1996年, 第9卷, 第1期　刊出日期：1996-01-19

  

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  脉冲PCVD沉积TiN膜的若干特点

  张海涛,杨兴宽,徐冰仲

  中国表面工程. 1996, 9(1): 0-0.

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  国内采用脉冲电源进行PCVD沉积TiN膜，尚未见报道。本文主要介绍脉冲PCVD沉积TiN膜的若干特点，并与直流PCVD作了比较。试验表明脉冲PCVD能降低TiN的沉积温度．细化晶粒．减小膜层中的氯含量，改善成膜质量，与直流PCVD相比．能进一步提高工模具寿命。