高端芯片用半导体基片原子级磨削技术的研究现状与发展趋势

王浩祥, 康仁科, 李生博, 董志刚, 高尚

中国表面工程 ›› 2025, Vol. 38 ›› Issue (5) : 60-82.

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中国表面工程 ›› 2025, Vol. 38 ›› Issue (5) : 60-82. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20250609001
特邀专栏:高端芯片原子级磨抛技术

高端芯片用半导体基片原子级磨削技术的研究现状与发展趋势

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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State-of-the-art and Prospectives of Atomic-level Grinding Technology for Semiconductor Substrates Used in High-end Chips

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2025, 38(5): 60-82 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20250609001
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2025, 38(5): 60-82 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20250609001
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{{article.reference}}

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