砷化镓化学机械抛光中的摩擦化学去除机理研究

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20241229001

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中国表面工程 ›› 2025, Vol. 38 ›› Issue (5) : 99-106. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20241229001

特邀专栏：高端芯片原子级磨抛技术

砷化镓化学机械抛光中的摩擦化学去除机理研究

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Research on Tribochemical Mechanism in Chemical Mechanical Polishing of GaAs

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收稿日期	修回日期	接受日期	出版日期
2024-12-29	2025-02-28	2025-04-18	2025-10-23
发布日期
2025-07-31

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