Invar 36表面脉冲直流磁控溅射制备AlN薄膜的择优取向调控及性能

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20231129001

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中国表面工程 ›› 2025, Vol. 38 ›› Issue (4) : 233-243. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20231129001

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Invar 36表面脉冲直流磁控溅射制备AlN薄膜的择优取向调控及性能

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Preferred Orientation Tuning and Performance of AlN Films Prepared by Pulsed DC Magnetron Sputtering on Invar 36 Surfaces

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收稿日期	修回日期	接受日期	出版日期
2023-11-29	2024-03-15	2024-05-21	2025-08-23
发布日期
2024-12-23

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