靶电流对磁控溅射制备TiB<sub>2</sub>薄膜结构及性能的影响

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20231114002

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中国表面工程 ›› 2024, Vol. 37 ›› Issue (5) : 147-157. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20231114002

极端条件表面工程专栏

靶电流对磁控溅射制备TiB₂薄膜结构及性能的影响

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Effect of Target Current on the Structure and Properties of TiB₂ Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering

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收稿日期	修回日期	出版日期
2023-11-14	2024-01-10	2024-10-20
发布日期
2024-10-20

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