外延硅片表面时间雾的形成及其机理

李慎重，梁兴勃，田达晰，马向阳，杨德仁

中国表面工程 ›› 2022, Vol. 35 ›› Issue (6) : 266-273.

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中国表面工程 ›› 2022, Vol. 35 ›› Issue (6) : 266-273. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20220505002

外延硅片表面时间雾的形成及其机理

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Formation of Time-dependent Haze on the Surface of Epitaxial Silicon Wafers and Its Mechanism

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