使用电子回旋波共振等离子体源辅助中频磁控溅射沉积氧化铌薄膜

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20220116002

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中国表面工程 ›› 2024, Vol. 37 ›› Issue (4) : 273-279. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20220116002

工程应用

使用电子回旋波共振等离子体源辅助中频磁控溅射沉积氧化铌薄膜

{{article.zuoZhe_CN}}

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Deposition of Niobium-oxide Thin Films Using Electron Cyclotron Wave Resonance Plasma-Ion-Source-Assisted Medium-frequency Magnetron Sputtering

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2024, 37(4): 273-279 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20220116002

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2024, 37(4): 273-279 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20220116002

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收稿日期	修回日期	出版日期
2022-01-16	2023-07-15	2024-08-20
发布日期
2024-08-20

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