因瓦合金纳米抛光材料去除机理的分子动力学模拟∗

王婉，周青，华东鹏，李硕，王志军，王海丰

中国表面工程 ›› 2021, Vol. 34 ›› Issue (6) : 160-167.

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中国表面工程 ›› 2021, Vol. 34 ›› Issue (6) : 160-167. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20210826002
研究论文

因瓦合金纳米抛光材料去除机理的分子动力学模拟∗

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Molecular Dynamics Simulation on the Material Removal Mechanism in the Nano-polishing Process of Invar Alloy

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