电流密度对电沉积铜膜剩余电阻率的影响∗

张帅，罗积润，王小霞，张瑞，吴质洁，冯海蛟

中国表面工程 ›› 2021, Vol. 34 ›› Issue (4) : 60-66.

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中国表面工程 ›› 2021, Vol. 34 ›› Issue (4) : 60-66. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20210201001
研究论文

电流密度对电沉积铜膜剩余电阻率的影响∗

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Effects of Current Density on Residual Resistivity Ratio of Electrodeposited Copper Films

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