离子源循环轰击对磁控溅射TiN薄膜结构和电学性能的影响

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20160911002

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中国表面工程 ›› 2017, Vol. 30 ›› Issue (1) : 77-82. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20160911002

表面工程

离子源循环轰击对磁控溅射TiN薄膜结构和电学性能的影响

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Effects of Ion Source Cycle Bombardment on Structure and Electrical Properties of TiN Films Prepared by Magnetron Sputtering

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2017, 30(1): 77-82 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20160911002

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2017, 30(1): 77-82 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20160911002

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