基体偏压对电弧离子镀TiVCrNiSi(N)高熵涂层微观结构与性能的影响

doi:10.11933/CSE2026115

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中国表面工程 ›› 2026, Vol. 39 ›› Issue (4) : 422-433. DOI: 10.11933/CSE2026115

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基体偏压对电弧离子镀TiVCrNiSi(N)高熵涂层微观结构与性能的影响

{{article.zuoZhe_CN}}

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Effect of Substrate Bias on Microstructure and Properties of TiVCrNiSi(N) High-entropy Coating Deposited by Arc Ion Plating

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{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2026, 39(4): 422-433 https://doi.org/10.11933/CSE2026115

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收稿日期	修回日期	接受日期
2025-10-11	2025-10-28	2025-10-29
发布日期
2026-08-25

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