离子源辅助HiPIMS反应溅射快速沉积Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜

doi:10.11933/CSE2026057

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中国表面工程 ›› 2026, Vol. 39 ›› Issue (2) : 365-373. DOI: 10.11933/CSE2026057

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离子源辅助HiPIMS反应溅射快速沉积Al₂O₃薄膜

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Rapid Deposition of Al₂O₃ Films by HiPIMS Assisted by Ion Source

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ISSN 1007-9289　CN 11-3905/TG
主管：中国科学技术协会
主办：中国机械工程学会
编辑出版：《中国表面工程》编辑部

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收稿日期	修回日期	接受日期	出版日期
2024-05-23	2024-08-20	2025-01-09	2026-04-23
发布日期
2026-05-06

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