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摘要: |
一般的高真空高压离子镀会导致加工物表面粗糙、加工物温度上升,因而影响镀层的性质,而HCD法则没有以上这些缺点,极适合于工业应用。研究HCD法在低温240℃下,于SKH51热作工具钢上被覆Ti(C,N)陶瓷梯度镀层,改变反应气体的组成百分比(C2H2:N2),来探讨其所形成镀膜的特性。 |
关键词: HCD法 离子镀 梯度镀层 组成研究 |
DOI: |
分类号:TG174.444 |
基金项目: |
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Study on the Gradient Coating Produced by HCD Ion Plating Technique |
Li Shiqin Yang Yaosheng
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Abstract: |
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Key words: hollow cathode discharge,ion plating,gradient coating |