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| 摘要: |
| 一般的高真空高压离子镀会导致加工物表面粗糙、加工物温度上升，因而影响镀层的性质，而ＨＣＤ法则没有以上这些缺点，极适合于工业应用。研究ＨＣＤ法在低温２４０℃下，于ＳＫＨ５１热作工具钢上被覆Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）陶瓷梯度镀层，改变反应气体的组成百分比（Ｃ２Ｈ２：Ｎ２），来探讨其所形成镀膜的特性。 |
| 关键词: HCD法 离子镀 梯度镀层 组成研究 |
| DOI： |
| 分类号:TG174.444 |
| 基金项目: |
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| Study on the Gradient Coating Produced by HCD Ion Plating Technique |
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Li Shiqin Yang Yaosheng
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| Abstract: |
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| Key words: hollow cathode discharge,ion plating,gradient coating |
