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等离子体化学气相沉积设备改进及其效果
白辰东,陈华,何家文
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摘要:
本文分析了原直流等离子体化学气相沉积设备在镀膜中存在的问题,提出了相应的改进措施和方法,通过一定量的工艺调试及分析检测,发现提高预真空度,降低残留气体压力,附加外热源,可以有效地提高TiN镀层的质量。
关键词:  等离子体化学气相沉积 设备改进 镀膜 镀层 真空度 热源 改进措施 工艺调试 分析检测 定量
DOI:
分类号:TG174.444
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