引用本文:柳永康,谢发勤,胡宗纯,吴向清.时间和电压对TC4合金表面等离子碳氮共渗层的影响[J].中国表面工程,2007,(5):37~40
.The Effect of Time and Voltage on Plasma Carbonitriding Layer of TC4 Alloy[J].China Surface Engineering,2007,(5):37~40
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时间和电压对TC4合金表面等离子碳氮共渗层的影响
柳永康,谢发勤,胡宗纯,吴向清
作者单位
摘要:
应用液相等离子电解碳氮共渗技术，在NI-GN03、乙醇和甘油组成的电解液体系下，短时间内在TC4合金表面制备高硬度渗层。探索了时间和电压对膜层的硬度、厚度、相组织和微观形貌的影响。结果表明：随着时间的延长和工作电压的提高，渗层的硬度、厚度均有明显的提高，表面粗糙度变大。并得出了TC4合金进行等离子碳氮共渗的理想电压应控制在280V左右。
关键词:  液相  等离子  碳氮共渗
DOI：
分类号:TG156.9
基金项目:陕西省科技计划目
The Effect of Time and Voltage on Plasma Carbonitriding Layer of TC4 Alloy
LIU Yong-kang  XIE Fa-qin  HU Zong-chun  WU Xiang-qing
Abstract:
Key words:  liquid phase  plasma  carbonitriding
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