Ni-W-B电沉积涂层及微观结构研究

C．P.Steffani; J．W．Dini; J．R．Groza; A．Palazohlu; 张伟

引用本文:	C．P.Steffani,J．W．Dini,J．R．Groza,A．Palazohlu,张伟.Ni-W-B电沉积涂层及微观结构研究[J].中国表面工程,1998,(1):
	.[J].China Surface Engineering,1998,(1):

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Ni-W-B电沉积涂层及微观结构研究
C．P.Steffani,J．W．Dini,J．R．Groza,A．Palazohlu,张伟

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单位

摘要:

镀Cr层因为镀液对环境的污染，使Ni－W－B三元素合金抗磨和抗蚀镀层研究得到迅速发展。镀层沉积条件为碱性镀液，不溶性电极。共沉积合金镀层包含40wt％W和1wt％B，为非晶或部分非晶结构。合金沉积层在镀层均匀和反射性方面均优于Cr镀层。在各种酸性镀液（盐酸、硫酸、磷酸）条件下将Ni－W－B合金镀层性能与镀Cr利镀Ni层进行了比较。在各种条件下，Ni-W-B合金镀层具有最好的性能。本研究中使用的是铜底材。

关键词:

DOI：

分类号:TG17

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