引用本文:张海涛,杨兴宽,徐冰仲.脉冲PCVD沉积TiN膜的若干特点[J].中国表面工程,1996,(1):
.[J].China Surface Engineering,1996,(1):
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脉冲PCVD沉积TiN膜的若干特点
张海涛,杨兴宽,徐冰仲
作者单位
摘要:
国内采用脉冲电源进行PCVD沉积TiN膜，尚未见报道。本文主要介绍脉冲PCVD沉积TiN膜的若干特点，并与直流PCVD作了比较。试验表明脉冲PCVD能降低TiN的沉积温度．细化晶粒．减小膜层中的氯含量，改善成膜质量，与直流PCVD相比．能进一步提高工模具寿命。
关键词:  脉冲电源,PCVD,TiN,沉积
DOI：
分类号:TB43
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