引用本文:范玉殿.气相沉积[J].中国表面工程,1988,(1):
.[J].China Surface Engineering,1988,(1):
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气相沉积
范玉殿
作者单位
摘要:
本室开展的气相沉积工作主要是真空气相沉积,也就是真空镀膜。这方面工作大致可分为两类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。物理气相沉积是靠蒸发或溅射产生气相物质,并使其在工件上沉积形成薄膜。例如,目前制镜工业大量应用的“以铝代银”工艺,就是在玻璃板上蒸镀一薄层铝膜。溅射是利用气体放电时产生的正离子
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