引用本文:龙航宇,余志明,陈爽,魏秋平,刘学璋.掺钨氧化钒薄膜的制备及研究[J].中国表面工程,2009,(5):31~35
.[J].China Surface Engineering,2009,(5):31~35
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掺钨氧化钒薄膜的制备及研究
龙航宇,余志明,陈爽,魏秋平,刘学璋1,2
1.中南大学,材料科学与工程学院;2.有色金属材料科学与工程教育部重点实验室
摘要:
采用复合靶磁控溅射法在SiO2玻璃、普通玻璃和Si(100)上沉积氧化钒薄膜,然后对其进行真空退火.分别利用X射线衍射、原子力显微镜、紫外可见光分光光度计和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和光透过率.结果表明:500 ℃下退火1 h,SiO2玻璃衬底上沉积40 min的薄膜主要物相为VO2和V2O5,退火时间延长到2 h,薄膜主要物相为VO2,薄膜晶粒尺寸均匀,晶粒大小约为100 nm;Si (100)上沉积40 min的薄膜在500 ℃下退火2 h后,物相为低于+4价的钒氧化物;掺钨后薄膜可见光和红外光的透过率都有提高.
关键词:  磁控溅射  掺钨
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