引用本文:苏福荣,刘长华.刷镀电压对电刷镀Ni-W(D)合金镀层性能的影响[J].中国表面工程,2004,(1):28~30
.Influence of Plating Voltage on Properties of Brush Plated Ni-W(D) Layer[J].China Surface Engineering,2004,(1):28~30
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刷镀电压对电刷镀Ni-W(D)合金镀层性能的影响
苏福荣,刘长华
作者单位
摘要:
通过热震试验、磨损试验、金相观察等方法研究了刷镀电压对Ni-W(D)合金镀层结合性、耐磨性以及显微硬度和微观组织的影响。研究结果表明，刷镀电压太高或太低镀层性能都会恶化，刷镀电压为12V时镀层与基体的结合性最好，镀层的晶粒细小、具有较大的显微硬度，其耐磨性最好。
关键词:  电刷镀 Ni-W（D）合金 刷镀电压 性能
DOI：
分类号:TG174.441
基金项目:
Influence of Plating Voltage on Properties of Brush Plated Ni-W(D) Layer
SU Fu-rong1  LIU Chang-hua2
Abstract:
Thermal shock test,wear test and microscopy were used to study the effect of brush-plating voltage on the adhesion, wear-resistance, microhardness and microstructure of brush plated NiW(D) layer. The results showed that too high or too low plating voltage deteriorated the properties of NiW(D) layer. When the plating voltage reached 12V, the bonding strength and wear resistance were best. The NiW(D) layer displayed higher microhardness and finer grains.
Key words:  brush plateing,NiW(D) alloy,brush-plating voltage,properties
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