引用本文:许其亮,史文华,汪涛.工艺因素对3Cr2W8V和4Cr5MoV1Si钢低温电解渗硼的影响[J].中国表面工程,1991,(4):19~22
.[J].China Surface Engineering,1991,(4):19~22
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工艺因素对3Cr2W8V和4Cr5MoV1Si钢低温电解渗硼的影响
许其亮,史文华,汪涛
作者单位
摘要:
本文研究了工艺因素对3Cr2W8V和4Cr5MoV1Si钢低温电解渗硼过程的影响，着重讨论了电流密度所起的作用，并指出电流密度过大产生的阳极效应可能导致采用大电流密度时渗硼层厚度下降的主要原因之一。文中给出了低温电解渗硼的应用实例。
关键词:  渗硼层 3Cr2W8V Cr5Mo 工艺因素 电流密度 大电流 厚度 低温电解 阳极效应
DOI：
分类号:TG156 TF821
基金项目:
Abstract:
Key words:  
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