引用本文:.在含氮气氛中的等离子处理十年的进展[J].中国表面工程,1989,(1):
.[J].China Surface Engineering,1989,(1):
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在含氮气氛中的等离子处理十年的进展
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在过去十年中,用于加热和表面处理的辉光放电工艺在许多工业领域取得了愈来愈有价值的应用,其应用范围从微电子元件的处理和光学应用到表面硬化和沉积耐磨的薄膜与涂层。虽然通常,辉光放电过程的物理细节及其所形成的涂层或表面层的微观结构不完全清楚,然而只要适当调整工艺条件就能产生用一般常规方法难于得到的各种有用组织。新近的例子有沉积高耐磨的氮化钛涂层和钛制零件的等离子氮化。本文将评述这些工艺的基本区别和应用,并指出一些进一步发展的倾向。
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